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70%以上，生產(chǎn)成本降低50%以上。

（五）原子臺階電鍍高純單晶銅板與靶材

揭榜任務：針對6G通信、新能源等領域對高性能磁控濺射銅薄膜的需求，開展大尺寸高純單晶銅板/靶材制備的關鍵技術研究。重點開發(fā)原子臺階調(diào)控技術，實現(xiàn)高純、高質量銅板材的單晶制造；發(fā)展先進電鍍制造工藝，實現(xiàn)單晶銅板材的連續(xù)增厚；基于單晶銅板材開發(fā)單晶銅靶材，優(yōu)化磁控濺射薄膜的高質量沉積技術，制備高性能濺射銅薄膜；同時，建設高純單晶銅板/靶材生產(chǎn)線，推動產(chǎn)業(yè)化示范應用。

預期目標：到2026年，實現(xiàn)原子臺階電鍍高純單晶銅板的尺寸達到≥625px×750px，純度達到6N級，厚度≥3mm；基于單晶銅板制備的單晶銅靶直徑達到2-8英寸；在相同條件下，濺射薄膜電阻率較多晶銅靶降低15%以上；建立大尺寸高純單晶銅板生產(chǎn)示范線，年產(chǎn)625px×750px高純單晶銅板≥5000塊。

（六）基于石墨烯原子制造技術制備高導熱低熱阻石墨烯熱界面材料

揭榜任務：面向高功率器件的熱管理解決方案，基于原子制造技術，發(fā)展更高效的熱界面材料。以結構原子級精準的石墨烯材料，構筑器件熱源本體與散熱構件本體之間的熱通道，提高熱量傳遞效率，解決器件受力形變等核心關鍵技術問題，在高功率器件上驗證可靠性，并探索實現(xiàn)高效熱電轉換的可能。

預期目標：到2026年，實現(xiàn)高導熱低熱阻的石墨烯熱界面材料規(guī)模生產(chǎn)，垂直導熱系數(shù)大于300W/m·K，熱阻小于0.05K·cm²/W，壓縮殘余應力小于30PSI（50%壓縮量），回彈率大于50%，系列產(chǎn)品在不少于10000個高功率器件上示范應用。

（七）高密度原子團簇傳感陣列打印技術

揭榜任務：開展基于團簇墨水的柔性傳感陣列打印制造技術研究，突破高穩(wěn)定原子團簇墨水可控制備及印刷電子“墨水”化過程中材料物化性能和界面性質調(diào)控，結合高精度、大面積打印制備工藝技術，突破高性能、高效率、高分辨率打印制造技術難題。針對人體或機械裝備穿戴需求，制備基于原子團簇功能材料的柔性薄膜陣列傳感器，實現(xiàn)應用驗證。

預期目標：到2026年，開發(fā)出基于團簇墨水的柔性傳感器打印技術，團簇墨水材料不少于3種，傳感物理量不少于3種，傳感器陣列密度>100個/cm²；其中壓力傳感范圍優(yōu)于5kPa-50MPa，彎折柔性薄膜性能變化小于±10% @＞10萬次，柔性溫度傳感器響應范圍10℃-80℃，精度≤0.5℃。

三、公共支撐

（一）高分辨透射電子顯微鏡

揭榜任務：面向原子級加工中結構演變的動態(tài)表征和原子級制造產(chǎn)物性能及可靠性的綜合評測需求，突破高相干性場發(fā)射電子源穩(wěn)定發(fā)射、